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中國申請專(zhuān)利的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些?

發(fā)明專(zhuān)利(Invention)，最長(cháng)保護期20年

審查時(shí)間：2-3年(發(fā)明專(zhuān)利優(yōu)先審查1年內)

授權率：全國平均授權率為30%左右(70%發(fā)明專(zhuān)利申請被駁回)

專(zhuān)利主題：軟件算法、軟件功能、有高度創(chuàng )造性的技術(shù)改進(jìn)、新產(chǎn)品

發(fā)明專(zhuān)利缺點(diǎn)：

(1)費用高，申請1件發(fā)明專(zhuān)利平均成本是1萬(wàn)元左右

(2)時(shí)間長(cháng)，通常2-3年左右才會(huì )出審查結果(申請優(yōu)先審查可加快進(jìn)度)

(3)不易授權，審查較嚴且結果不確定，駁回率高，且駁回不會(huì )退費

(4)不易保密，先公開(kāi)、后審查，公開(kāi)之后授權之前基本不受保護

發(fā)明專(zhuān)利優(yōu)點(diǎn)：

(1) 政府單位認可度高(認定高新技術(shù)企業(yè)、申請政府資助補貼項目、與政府單位合作)

(2) 社會(huì )認可度高，公關(guān)價(jià)值高，可提升企業(yè)品牌形象

(3) 權利相對穩定，不易被宣告無(wú)效

(4) 爭取投融資(向投資人表明競爭壁壘)

實(shí)用新型專(zhuān)利(Utility)，最長(cháng)保護期10年

審查時(shí)間：6-8個(gè)月

授權率：全國平均授權率為80%左右專(zhuān)利主題：機械結構、電路結構，有一定創(chuàng )造性的技術(shù)改進(jìn)

實(shí)用新型專(zhuān)利優(yōu)點(diǎn)：

(1) 申請費用低，申請成本僅相當于發(fā)明專(zhuān)利的30%左右

(2) 申請時(shí)間短，從申請到授權僅需6-8個(gè)月

(3) 授權率高，通常授權率在80%以上

(4) 保密性強，實(shí)用新型專(zhuān)利授權后才會(huì )公開(kāi)，公開(kāi)時(shí)已受保護

(5) 權利要求范圍適當的實(shí)用新型不容易被宣告無(wú)效

實(shí)用新型專(zhuān)利缺點(diǎn)：

(1) 通過(guò)電商網(wǎng)站或行政途徑維權時(shí)需要出示專(zhuān)利權評價(jià)報告

(2) 在專(zhuān)利權評價(jià)報告中可能出現負面結論，或在無(wú)效宣告程序中被宣告(部分)無(wú)效

發(fā)明+實(shí)用新型專(zhuān)利同一天申請，應該在發(fā)明專(zhuān)利有較大授權前景的前提下采用

優(yōu)點(diǎn)：發(fā)明專(zhuān)利授權以前可以獲得實(shí)用新型專(zhuān)利的保護，在實(shí)用新型專(zhuān)利授權以前不要申請提前公開(kāi)發(fā)明專(zhuān)利

缺點(diǎn)：如果發(fā)明專(zhuān)利被駁回，駁回文件提供的專(zhuān)利對比文件就可以用來(lái)無(wú)效實(shí)用新型專(zhuān)利，導致專(zhuān)利全部落空。

外觀(guān)設計專(zhuān)利(Design)，最長(cháng)保護期15年

審查時(shí)間：4-6個(gè)月

授權率：全國平均授權率為95%左右

專(zhuān)利主題：軟件UI交互界面、產(chǎn)品造型、包裝設計

外觀(guān)專(zhuān)利優(yōu)點(diǎn)：

(1) 申請費用低，申請外觀(guān)專(zhuān)利最低僅須1000元左右

(2) 申請時(shí)間短，從申請到授權僅需4-6個(gè)月

(3) 授權率高，通常授權率在95%以上

(4) 保密性強，外觀(guān)專(zhuān)利授權后才會(huì )公開(kāi)，公開(kāi)時(shí)已受保護(5) 原創(chuàng )的外觀(guān)設計不容易被宣告無(wú)效

外觀(guān)專(zhuān)利缺點(diǎn)：

(1)通過(guò)電商網(wǎng)站或行政途徑維權時(shí)通常需要同時(shí)出具專(zhuān)利權評價(jià)報告

(2)若抄襲或簡(jiǎn)單修改他人設計，在專(zhuān)利權評價(jià)報告中可能出現負面結論，或在無(wú)效宣告程序中被宣告無(wú)效

如果要在外國申請專(zhuān)利，通常選擇PCT申請途徑。